氩离子抛光

1、技术原理

离子通过电场加速作用与样品表面从而产生溅射效应，使样品获得高质量的平滑表面。离子研磨属于无应力研磨，不会对样品表面造成机械损害，被广泛应用于电子材料、半导体、光伏材料、锂离子电池、页岩、矿石、陶瓷、金属材料、高分子材料、生物材料等等领域。

2、主要仪器简介

本实验室Gatan 697离子研磨机配置有两只潘宁式离子枪，装载环形永磁铁，聚焦离子束设计，采用低温加工技术，能有效的消除热效应对地质样品的影响。氩离子抛光后的样品可以清晰的观察到岩石孔隙类型以及孔隙中的黏土，可以结合软件统计孔隙大小及面孔率，尺度可达纳米级；可以观察有机质演化程度及有机质孔的分布情况，可提供优质的镜下图片；可以结合能谱及电子背散射在多尺度下分析矿物成分及分布，观察纹层及纹层中矿物分布情况等等。

技术指标：

（1）离子枪：两只潘宁式离子枪，装载环形永磁铁，聚焦离子束设计

（2）离子枪角度：+10°~-10°

（3）电压：0~8KV

（4）抛光模式：6种抛光模式，可兼顾平面抛光和截面抛光

（5）抛光区域：平面0.8mm×0.8mm；截面0.5-1.5mm²

3、测试须知

送样需求：至少2cm×2cm×2cm的样品；

测试报告：客户所获数据展示。